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重庆任丙科技有限公司(以下简称任丙科技公司)成立于2011年,核心团队专注于新材料产品研发生产已逾20年,作为国家级高新技术企业、重庆市科技型企业、重庆市知识产权试点企业,始终坚持创新和品质优先,曾获重庆市2017年“专、精、 特、新”创新型企业及2020年“专、精、特、新小巨人”称号,并于同年成为中国晶体学会晶体应用与产业分会理事单位。任丙科技公司拥有4项重庆市重点战略性新产品、8项发明专利、25项实用新型专利以及完成成果转换18项的优异成绩,迅速成长为国内高纯氧化铝行业的领先企业。
任丙科技公司已产、在建、在研共十几个新材料产品,包括第三代半导体氮化镓芯片的蓝宝石衬底用高纯氧化铝(自有技术)、下一代宽禁带半导体材料氮化铝(全球首创自有技术)、新能源车用材料(自有技术)、芯片抛光材料(与国内高校合作开发的自有技术)、高纯光学材料(自有技术)、手机与watch手表用陶瓷背板材料(自研技术)、高纯超高温材料(在研)等。任丙科技公司产品远销国内外,广泛应用于氮化镓芯片衬底,手机、手表、夜光显示、航空航天军事装备整流与红外探测等众多领域。